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“存在与阐释:光刻”陈伟立艺术展
展览城市:北京-北京
展览时间:2009-08-01 ~ 2009-08-22
展览地点:三影堂摄影艺术中心
参展艺术家:陈伟立
开幕酒会:2009-08-01 16:00
展览介绍:

美籍华裔艺术家陈伟力的二十四幅摄影版画作品将在北京三影堂摄影艺术中心多功能厅展出。他的作品融合了摄影与绘画,题材涉猎广泛,既有种族关系、性别政治、文化史以及个人的叙事。展览中的几幅作品审视了他自己家族的历史,以及中西文化的交错。

陈伟力是第一代出生在美国的华人,在伊利诺伊州的芝加哥出生并长大。1979年在芝加哥艺术学院获得美术学士学位。过去以来,陈伟力在美国和世界各地的一百五十多个展出现场举办过展览,并且定期在美国纽约国际版画中心举办展览。他担任国家艺术基金会、约翰-卡内基•麦克•阿瑟基金会评估员。作品被美国众多美术馆永久收藏。曾获得众多艺术奖项,其中包括2005年获得的第凡尼基金会奖。目前,陈伟力生活在伊阿华州德梅因,担任德雷克大学艺术及设计系全职教授。

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