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哈瓦那双年展开幕 吸引180位艺术家
作者:龚佳佳    来源:《中国文化报》    日期:2012-05-18

5月11日至6月11日,第十一届哈瓦那双年展在哈瓦那众多艺术场馆举办,来自43个国家180位艺术家的作品参展。   

现身本届双年展的艺术家既有世界知名的奥地利艺术家赫尔曼·尼奇、俄罗斯艺术家拉夏普和卡巴科夫、美国艺术家安德烈斯·萨拉诺,也有众多来自拉丁美洲、非洲、亚洲地区的艺术家。特别值得期待的是,本届双年展将推出一些集体展览项目,其中包括来自中国艺术家金石的展品。此外,古巴的美术院校积极参与双年展,他们将和来自世界各地的艺术家一起进行当代艺术创作经验的交流和互动。

哈瓦那双年展是古巴乃至拉美地区具有较大影响的当代艺术交流平台。古巴造型艺术委员会主席鲁本德巴耶称,双年展的举办是古巴革命胜利后文化政策成功实施的结果

关键字:哈瓦那双年展
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